Теперь исследователи впервые нанесли на карту это EUV-излучение и разработали теоретическую модель, которая объясняет, как излучение зависит от трехмерной формы плазмы. При этом они обнаружили ранее неиспользованный источник EUV-света, который может быть полезен для различных приложений, включая полупроводниковую литографию, процесс, используемый для создания интегральных схем.
В экспериментах Андреа Джованнини и Реза Абхари из ETH-Zurich в Швейцарии взорвали каплю олова диаметром 30 микрон с помощью мощного лазера 6000 раз в секунду. Они измерили пространственное распределение результирующего EUV-излучения и обнаружили, что 30 процентов его приходилось из-за области капли, на которую попал лазер.
Согласно их модели, это неожиданное распределение было связано с тем, что плазма, частично окружающая каплю, была вытянутой в направлении лазерного импульса.
Устройства, которые излучают узкие пучки EUV для целей, подобных полупроводниковой литографии, используют зеркала для фокусировки излучения.
Но до сих пор никто не знал, как собирать EUV-свет, исходящий из-за капли.
По словам Джованнини, благодаря этой работе будущие устройства могут использовать этот ранее неизвестный источник EUV-излучения.
Новые эксперименты также могут дать информацию при разработке устройств EUV, показывая, где зеркала должны быть размещены вокруг капли, чтобы собрать и сфокусировать как можно больше EUV-света.
Исследователи описывают свои эксперименты в Журнале прикладной физики.