Ультрафиолетовый свет до крайности: эксперименты могут помочь в разработке новых источников экстремального ультрафиолетового света
Теперь исследователи впервые нанесли на карту это EUV-излучение и разработали теоретическую модель, которая объясняет, как излучение зависит от трехмерной формы плазмы. При этом они обнаружили ранее неиспользованный источник EUV-света, который может быть полезен для различных приложений, включая полупроводниковую литографию, процесс, используемый для создания интегральных схем. …